이름: | Nd YVO4 레이저 결정 | 집중: | 0.5%,1.1%, 2.0%.3.0% |
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오리엔테이션: | a-삭감 (100) | 코팅: | HR@1064nm+532nm+HT@808nm/AR@1064nm+532nm |
배향 허용도: | < 0=""> | 표면 평탄도: | </8> |
하이 라이트: | Nd Yag 레이저 막대,레이저 물자 |
Nd YVO4 레이저 결정 네오디뮴 도핑된 이트륨 바나듐산염 (Nd :YVO4)는 낮고 중앙이 전력 밀도를 위해 특히 현재 상업적 레이저 결정 사이에 다이오드여기를 위한 최효율 레이저 호스트 결정 소자입니다. 특징 : 넓은 흡수 대역폭 낮은 펌프 한계 높은 경사 효율...
Nd YVO4 레이저 결정
네오디뮴 도핑된 이트륨 바나듐산염 (Nd :YVO4)는 낮고 중앙이 전력 밀도를 위해 특히 현재 상업적 레이저 결정 사이에 다이오드여기를 위한 최효율 레이저 호스트 결정 소자입니다.
특징 :
넓은 흡수 대역폭
낮은 펌프 한계
높은 경사 효율
선형으로 극성 방사와 단일 모드 출력
재료의 매개 변수
재료 |
Nd :YVO4 |
집중 |
0.5%,1.1%, 2.0%.3.0% |
배향 |
a-삭감 (100) |
코팅 |
HR@1064nm+532nm+HT@808nm/AR@1064nm+532nm |
레이저 등급 동안 마멸 상술
배향 허용도 |
< 0=""> |
두께 / 직경 공차 |
±0.05mm |
표면 평탄도 |
8> |
파면왜 |
4> |
표면 품질 |
10/5 |
대비 |
30 |
수직 |
15 |
개방 간극 |
>90% |
챔엠에프러 |
<0> |
표준품
재료 |
개구 차원스컴 |
길이 밀리미터 |
코팅 |
Nd(0.5%) :YVO4 |
3x3 |
4 |
HR@1064+532+HT@808/ AR@1064+532 |
6 |
|||
10 |
|||
4 |
AR/AR@1064+808 |
||
6 |
|||
10 |
|||
Nd(1%) :YVO4 |
3x3 |
1 |
HR@1064+532+HT@808/ AR@1064+532 |
2 |
|||
3 |
|||
4 |
|||
1 |
AR/AR@1064+808 |
||
2 |
|||
3 |
|||
4 |
|||
Nd(2%) :YVO4 |
3x3 |
1 |
HR@1064+532+HT@808/ AR@1064+532 |
2 |
|||
3 |
|||
1 |
AR/AR@1064+808 |
||
2 |
|||
3 |
|||
Nd(3%) :YVO4 |
3x3 |
0.5 |
HR@1064+532+HT@808/ AR@1064+532 |
1 |
|||
2 |
|||
0.5 |
AR/AR@1064+808 |
||
1 |
|||
2 |